GHW-12Z ENI 射频等离子体发生器

Description

ENI GHW-12Z射频等离子体发生器详解

产品概述

ENI GHW-12Z是一款高频射频等离子体发生器，由ENI公司设计制造。它能够产生高纯度、高密度的等离子体，广泛应用于半导体制造、材料科学、表面处理等领域。

GHW-12Z ENI

产品特点

高功率输出:提供稳定的高功率输出，确保等离子体的产生和维持。

频率可调:频率范围宽，可适应不同的工艺需求。

匹配网络:内置匹配网络，保证射频功率的有效传输。

过流保护:具有过流保护功能，保护设备安全。

水冷系统:采用水冷系统，有效散热。

产品参数

输出功率:12kW

频率范围:13.56MHz

输出阻抗:50Ω

反射功率:≤1%

控制方式:数字控制，可通过计算机或触摸屏进行操作

GHW-12Z ENI

产品规格

冷却方式:水冷

工作环境:室温，干燥

系列

GHW-12Z属于ENI公司的高功率射频发生器系列。ENI公司是全球领先的射频功率放大器和射频发生器制造商，其产品广泛应用于工业、科研等领域。

特征

高稳定性:输出功率稳定，等离子体参数稳定。

模块化设计:模块化设计，易于维护。

远程控制:支持远程控制，方便操作。

作用

产生等离子体:通过高频电场激发气体产生等离子体。

材料处理:用于材料的切割、蚀刻、清洗、沉积等。

薄膜制备:用于制备各种薄膜材料。

表面处理:用于表面改性、表面清洁等。

用途

半导体制造:用于硅片加工、芯片制造等。

平板显示:用于液晶显示屏、OLED显示屏制造。

太阳能电池:用于太阳能电池的制备。

生物医学:用于生物医学材料的表面处理。

GHW-12Z ENI

应用领域

半导体行业

光电子行业

新能源行业

生物医学工程

优势

高功率:适用于大面积等离子体处理。

高稳定性:保证工艺的重复性。

灵活配置:可根据不同工艺需求进行配置。

总结

ENI GHW-12Z射频等离子体发生器是一款高性能、高可靠性的等离子体设备。它在半导体制造、材料科学等领域有着广泛的应用。